728x90 728x90 snc1 반도체 ) Dram 주요 Process Module - 2 SAC(Self Align Contact) 정의 및 특성 Cell Tr.의 Storage Node에 저장되어 있는 전하를 Bit Line을 통해 외부에서 읽고 쓸 수 있게 전달해주는 Contact을 형성하는 Process 이다. Dram의 고집적도를 결정하는 주요 공정 중 하나로 점차적으로 Shrink되는 Dram의 Unit Cell Pitch(선폭) 안에 Bit Line과 SNC(Storage Node Contact)를 Self-Align(주변 구조와 미리 증착된 Film을 활용하여 별도의 Photo Lithography 없이 Pattern 형성하는 Process)기법으로 형성시키는 Process이다. Self-Align Contact의 주요 공정은 형성 순서에 따라 BLC(Bit Line Contac.. 2022. 11. 28. 이전 1 다음 728x90 728x90